Бази даних


Наукова періодика України - результати пошуку


Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"

Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Реферативна база даних (2)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій



Пошуковий запит: (<.>A=Bunak S$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 2
Представлено документи з 1 до 2
1.

Bunak S. V. 
Electrical properties of semiconductor structures with Si nanoclusters in SiO2 grown by high temperature annealing technology of SiOX layer, X<2 [Електронний ресурс] / S. V. Bunak, A. A. Buyanin, V. V. Ilchenko, V. V. Marin, V. P. Melnik, I. M. Khacevich, O. V. Tretyak, A. G. Shkavro // Semiconductor physics, quantum electronics & optoelectronics. - 2010. - Vol. 13, № 1. - С. 12-18. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MSMW_2010_13_1_5
The theoretical and experimental investigations of electrical properties of the SiO2/Si-ncs/SiO2/Si structures grown by high temperature annealing SiOX, <$Eroman X~<<~2>, have been carried out. The influence of Si cluster growth conditions on frequency dependences of <$EC~-~V> characteristics, static and dynamic conductance of investigated structures has been clearly observed. As a result of theoretical modeling, <$EC~-~V> dependences have been calculated. The experimentally obtained negative constituent of differential capacitance has been qualitatively described. It has been experimentally found that the SiO2/Si-ncs/SiO2/Si structures with the tunnel dielectric layer revealed the effect of memorizing.
Попередній перегляд:   Завантажити - 344.143 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Bunak S. V. 
Electrical properties of MIS structures with silicon nanoclusters [Електронний ресурс] / S. V. Bunak, V. V. Ilchenko, V. P. Melnik, I. M. Hatsevych, B. N. Romanyuk, A. G. Shkavro, O. V. Tretyak // Semiconductor physics, quantum electronics & optoelectronics. - 2011. - Vol. 14, № 2. - С. 241-246. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MSMW_2011_14_2_22
The theoretical and experimental investigations of electrical properties of the Al-SiO2-(Si - ncs)-SiO2-Si structures grown using high temperature annealing SiOx, <$E x~<<~2>, have been carried out. It has been experimentally found that the Al-SiO2-(Si - ncs)-SiO2-Si structures with the tunnel dielectric layer revealed the effect of dynamic memory. Electric properties and parameters of the interface states located between Si - ncs and SiO2 were studied in detail by measuring of current-voltage, capacitance-voltage, and thermally stimulated current characteristics.
Попередній перегляд:   Завантажити - 298.288 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського